由小角度样品旋转系统、高真空系统,高压电源系统、快速气动换样系统以及高能聚焦离子枪等主要部分组成。主要参数如下:
(1) 高压电源: 0 ~ 10kV (连续可调,短路保护)
(2) 离子束电流: 0 ~ 1mA
(3) 离子束掠射角: 0°~ 45°(双面)
(4) 自动保护: 高压 (high voltage),
(5) 样品旋转
(6) 抽真空速率: 分子加速泵67L/min
(7) 样品: 3毫米直径
(8) 样品减薄速率: 40μm/h(Cu)
主要适用于金属、陶瓷及半导体等固体材料的TEM 样品的减薄与抛光。
无
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