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多靶磁控溅射镀膜设备

多靶磁控溅射镀膜设备

仪器编号

2019023024

规格

1.6个2英寸磁控溅射靶,2.真空度优于5*10-5Pa,3.不均匀度优于正负4%

生产厂家

成都同创材料表面科技有限公司

型号

PTL6S

制造国家

中国

分类号

03060300

放置地点

机电大楼D419斜对面房间D419斜对面房间

出厂日期

2019/07/01

购置日期

2019/09/24

入网日期

2019/11/15

主要规格及技术指标

1.6个两英寸磁控溅射靶，2.真空度优于5*10-5Pa,3.不均匀度优于正负4%

主要功能及特色

可制备各种金属、非晶属薄膜

主要附件及配置

无

公告名称	公告内容	发布日期