1) 蒸镀腔体:SUS304不锈钢,L×W×H:400×400×470mm(净尺寸);
真空室内表面及防污板等抛光至镜面;
2) 真空系统:复合分子泵+直联旋片泵,超高真空气动插板阀;“两低一高”数显复合真空计;
分子泵抽速1200L/s,直联旋片泵抽速9L/s;
3) 真空极限:优于1.3×10-5Pa(10-8Torr);
4) 抽速:从大气抽至2.67×10-4Pa≤20min;
5) 腔体漏率:保压12小时,真空腔室压强小于5Pa;
6) 样品台:抽屉式结构,基片托尺寸:120×120mm,该范围内可装卡各种规格的样品/基片;
样品台配有气动挡板,磁流体密封;
样品台旋转:旋转速度0-25转/分连续可调,磁流体密封,光控定位,设定在前门中心位置方便取样;
样品掩膜:提供一块掩膜板(掩膜图案客户提供),样品与掩膜板的配合间隙为0;
7) 蒸发源:可安装3组蒸发源;
各源均有水冷且独立,可蒸镀金属材料(舟式源/挂丝源)和有机材料(坩埚源/盒式源);
8) 蒸发电源:2台2KW蒸发电源,可采用恒流/恒功率控制,可以预设工作电流;
9) 膜厚监控:采用薄膜沉积控制器,可自动控制蒸镀速率和膜厚,膜厚仪速率显示精度优于± 0.015Ā,厚度显示精度±0.015Ā;;
10) 手套箱:左箱体尺寸:1800mm(长)×750mm(下宽)×900mm(高);
右箱体尺寸:1800mm)×750mm(下宽)×900mm(高);
箱体泄露率<0.02ol%/h;标准环境箱体内水、氧指标<1ppm;
11) 操控系统:PLC手自动控制,触摸屏操作;
12) 报警保护:缺水报警、真空阀门互锁保护、过流过压保护、防误操作保护等。
该设备用于制备金属、金属化合物、有机物薄膜等,在无水无氧的环境中完成相关实验研究工作,目前已广泛应用于钙钛矿、OPV等太阳能电池研究以及OLED、PLED等有机电发光研究领域。该设备可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑,其作为一款基础通用型实验室设备,与薄膜材料制备相关的各学科都可以使用。
无
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