主要规格及技术指标

离子源
离子枪：两个具有低能聚焦特性的潘宁离子枪
减薄角度：+10° 到 -10°, 每个离子枪均可独立调节
离子束能量：100 V 到 8.0 kV
离子束流密度：10m A/cm2 峰值
离子束对中：利用荧光屏精确对中
离子束直径：可由气流控制器或放电电压来调节
样品台
样品旋转：1 到 6 rpm 连续可调
束流调制：扇形范围可调的单束调制或双束调制

主要功能及特色

TEM样品制备，应用于半导体、金属、陶瓷等样品的减薄抛光。
（注：暂不接受强磁样品减薄）

主要附件及配置

无