主要规格及技术指标

1、离子加速电压：2~8KV
2、离子束直径：500um以上（FWHM）
3、刻蚀速率：500um以上（2小时的平均值、8KV、硅材质换算、突出量100um）
4、样品摆动功能（专利技术）：刻蚀过程中，样品自动摆动±30°）
5、加工模式：自动加工、间歇加工、精抛加工
6、最大样品尺寸：11mm（宽度）X10mm（长度）X2mm（厚度）

主要功能及特色

1、生产厂家：日本电子株式会社（JEOL）
2、规格型号：IB-19530CP
氩离子截面抛光仪能够实现复杂体系样品的截面（界面）的无损制备。对柔性薄膜截面进行加工，获得光滑平整的截面，从而实现对薄膜厚度和均匀性的表征；对包含不同硬度的多相样品进行抛光，得到无划痕的表面或者截面，从而获得较好的电子背散射衍射(EBSD)花样，满足进行微区相鉴定和相分布分析的要求；对多孔材料、介孔材料等采用传统机械抛光方法无法获得的截面进行加工，从而获得这些材料内部孔道结构信息。

主要附件及配置

无