主要规格及技术指标

1.系统利用晶格结构光照明显微技术实现超高分辨率成像。
2.超高分辨率激光器谱线波长：405nm、488nm、561nm、642nm，4条高功率固体激光器。
3.使用AOTF调节激光强度，能保证长时间观测过程中激光强度的稳定、荧光的定量精确。
4.完美聚焦系统：支持拼图；不同位置可设置不同聚焦补偿参数；兼容塑料培养皿和多孔板、普通玻片、腔室载玻片。
5.在488nm激光激发的情况下，分辨率能同时满足XY轴60nm，Z轴200nm。
6.采用晶格光照明成像，获取超高分辨率图像时只需要移动光栅相位，不需要进行光栅的旋转。
7.提供单分子荧光定位成像，XY轴分辨率20nm，Z轴分辨率50nm。
8.照明模式：包括全电动落射荧光（EPI）、斜照明（HILO）及全内反射照明（TIRF），并可以在不同的模式之间电动切换。
9.全电动TIRF成像，可电动调节所有波长的TIRF角度，可以以序列或准同步方式获取双通道成像。
10.采用双相位斜坡成像定位方式（Phase Ramp Imaging Localization Microscopy）的技术实现3D成像，并可以在2D及3D的成像模式之间实现电动切换。
11.带活细胞培养装置，可进行活细胞成像。

主要功能及特色

系统利用晶格结构光照明显微技术实现超高分辨率成像。可进行长时间的三维活细胞超分辨荧光成像，拍摄速度快，光毒性小，采集深度长，分辨率可达20nm。

主要附件及配置

图像工作站1台
图像处理分析软件1套
专用防震台1台
除湿机1台