电子枪
分辨率: 0.9 nm@15 KV 1.5 nm@1 KV
放大倍数:2 x ~ 2,000,000 x(屏幕放大倍数)
离子枪
离子源:Ga
分辨率: ≤2.5nm@30kv
放大倍数:50 x ~ 300,000 x
谱峰分辨率:<132.0 ev (Kv:25 AMPT:51.2us Al-Cu)
能谱仪(EDS)
能量分辨率:Mn Ka在130000cps下优于127eV;F Ka在130000cps下优于64eV;C Ka于130000cps下优于56eV
元素分析范围: Be4 ~ Cf98;
电子背散射衍射附件(EBSD)
EBSD线解析标定速度不低于5700pps,全分辨率1244×1024
花样采集标定时速度不低于240pps
EBSD面分布图分辨率不低于4096×4096
主要功能
(1)二次电子图像和背散射电子图像观察;
(2)除氢、氦、锂以外的所有元素能谱的定性和半定量分析;
(3)能谱线扫描、面扫描元素成分分析;
(4)EBSD材料结构取向分析;
(5)样品微区切割
应用领域
(1)金属、陶瓷、矿物、水泥、半导体、纸张、塑料、食品、农作物等材料的显微形貌、晶体结构和相组织的观察与分析;
(2)各种材料微区化学成分的定性和定量检测;
(3)机械零部件的失效分析;
(4)粉末、微粒纳米样品形态和粒度的测定;
(5)复合材料界面特性的研究;
(6)微区加工,透射样品制备
能谱系统(EDS):Oxford Ultim Max 65
电子背散射衍射系统(EBSD):Oxford Symmetry S3
公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
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