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薄膜沉积系统

薄膜沉积系统

仪器编号

1205124S

规格

*

生产厂家

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

型号

JGP450

制造国家

中国

分类号

03060301

放置地点

化学楼（校本部）114

出厂日期

2012/09/18

购置日期

2012/09/18

入网日期

2012/09/18

主要规格及技术指标

极限真空度：≤6.67x10-5 Pa；
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

主要功能及特色

主要用于氧化物等化合物薄膜沉积

主要附件及配置

系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、全自动匹配射频电源、直流电源、膜厚监测仪、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成

公告名称	公告内容	发布日期