大型仪器设备共享网络服务平台
.png){kind=icon}
按所属单位
按仪器列表
双室高真空PECVD与磁控溅射集成镀膜系统
仪器编号
1412039S
规格
*
生产厂家
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
型号
非标准件
制造国家
中国
分类号
03060302
放置地点
南校区双超所102室102室
出厂日期
2014/10/13
购置日期
2014/10/13
入网日期
2014/12/19
主要规格及技术指标
PECVD室和三靶磁控溅射系统
主要功能及特色
镀膜
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
