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四腔室多功能磁控溅射设备

四腔室多功能磁控溅射设备

仪器编号

1208026S

规格

多功能/四腔室/极限真空度≤6.67x10-5 Pa

生产厂家

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

型号

非标订制

制造国家

中国

分类号

03060302

放置地点

冶金馆316冶金馆316

出厂日期

2012/06/15

购置日期

2012/07/20

入网日期

2012/12/06

主要规格及技术指标

1# /2# 真空室: 极限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)；

主要功能及特色

镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜

主要附件及配置

无

公告名称	公告内容	发布日期