按所属单位

按仪器列表

原子层沉积系统

原子层沉积系统

仪器编号

1636343S

规格

ald双腔体

生产厂家

芬兰picosun

型号

R-200

制造国家

芬兰

分类号

03040422

放置地点

粉冶院工程中心102房101房

出厂日期

2016/12/22

购置日期

2016/12/22

入网日期

2016/12/26

主要规格及技术指标

ALD双腔体体结构，腔室可稳定加热至500摄氏度；ALD腔体的极限压强可以达到1-2mbar。

主要功能及特色

表层镀膜，沉积制备薄膜

主要附件及配置

无

公告名称	公告内容	发布日期